詳情介紹
精密光學(xué)平臺機械機構、特點(diǎn)、外形設計與“氣墊式精密隔振平臺”相同，不同之處僅是未加氣墊，該型號的平臺為廣大用戶(hù)提供了更多的選擇機會(huì )。通常采用先進(jìn)的電機和傳感器技術(shù)，可以提供亞微米級別的平移和旋轉控制，使得用戶(hù)可以在一個(gè)高度準確的位置上對樣品進(jìn)行操作。為了達到更高的控制精度，通常結合了先進(jìn)的反饋系統和精密測量設備，可以實(shí)現對物體位置、速度、振動(dòng)等多個(gè)方面的高度保持與控制。在光學(xué)試驗、顯微學(xué)以及半導體制造等領(lǐng)域，通常需要將樣品或器件放置在一個(gè)高度穩定精密控制的平臺上進(jìn)行操作。是一種專(zhuān)用于實(shí)現這一目的的精密運動(dòng)控制裝置。
精密光學(xué)平臺的應用：
顯微學(xué)：是一個(gè)關(guān)鍵的工具，用于顯微鏡圖像獲取、分析和處理過(guò)程中樣本的調整和擺放。
半導體制造：在芯片制造、線(xiàn)寬校準和接觸式掩模制作(photolithography)等應用中，都發(fā)揮著(zhù)重要作用，提供高精度的位置和角度控制。
光刻：是用于將納米或微米尺度部件寫(xiě)入大型平板中的必要工具之一。
太陽(yáng)能電池：在太陽(yáng)能電池生產(chǎn)中，被用于設備和材料的對準和精細控制。
精密光學(xué)平臺的維護保養：
1.保持平臺表面干燥、清潔，防止灰塵等附著(zhù)在上面影響穩定性。
2.平臺底部安裝防震墊可以抑制震動(dòng)，增強其精度和穩定性。
3.根據制造商說(shuō)明，使用適當的潤滑劑定期進(jìn)行潤滑，確保運動(dòng)間隙不會(huì )磨損過(guò)度。
4.要避免濕度、較高溫度和塵土過(guò)多的環(huán)境以及長(cháng)時(shí)間不使用的情況下應該妥善存放已平衡并固定好的平臺。
精密光學(xué)平臺特點(diǎn)：
高導磁不銹鋼面板。
25×25M 6安裝螺孔方陣。
蜂窩結構隔振層面、固有頻率低、隔震性能好。
中碳鋼墻板，剛性好。
主要參數
平面粗糙度不大于0.8μm
平面度不大于0.05mm/m2
規格
1200×800×800mm
1500×1000×800mm
1800×1200×800mm
2400×1200×800mm
其它尺寸可以定做
產(chǎn)品型號：ZK-1